一种还原炉的多管式进料系统
授权
摘要
本实用新型涉及一种还原炉的多管式进料系统，属于多晶硅生产中进料控制技术领域。包括与气化氯硅烷和氢气供料总管连接的至少两个进料主管，进料主管上均设置阀门和多个进料支管，阀门设置在气化氯硅烷和氢气供料总管与进料支管之间；还原炉中底盘上设置至少两组喷嘴，每组喷嘴之间呈间隔且均匀分布设置；进料主管的数量与喷嘴组数相等，每组喷嘴通过进料支管与对应进料主管连通。根据不同阶段的需料量，进行进料控制，解决喷嘴供料不均匀等问题；并使得在不同的进料量下维持喷嘴喷射的高度，解决炉内顶部流动性差、相对死区等问题，进而降低疏松、呈珊瑚状等非致密气相沉积的现象，有效提高硅料品质而不牺牲电耗的目的。
基本信息
专利标题 ：
一种还原炉的多管式进料系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021559530.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-31
授权号 ：
CN213141422U
授权日 ：
2021-05-07
发明人 ：
贾琳蔚朱彬陈彬陈绍林杨楠李寿琴刘逸枫甘居富
申请人 ：
云南通威高纯晶硅有限公司
申请人地址 ：
云南省保山市工贸园区昌宁园中园
代理机构 ：
成都天嘉专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
向丹
优先权 ：
CN202021559530.7
主分类号 ：
C01B33/03
IPC分类号 ：
C01B33/03
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C01
无机化学
C01B
非金属元素；其化合物
C01B33/00
硅; 其化合物
C01B33/02
硅
C01B33/021
制备
C01B33/027
使用除二氧化硅或含二氧化硅物料以外的气态或汽化的硅化合物的分解或还原
C01B33/03
使用卤化硅或卤化硅烷的分解，或其以氢作为惟一的还原剂的还原
法律状态
2021-05-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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