一种盘片抛光及检测装置
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摘要

一种盘片抛光及检测装置,包括机台、设置在机台上的抛光组件、分别设置在抛光组件相对两侧的移位组件及检测组件。机台的台面上设置有一滑槽,滑槽内设置有一滑座,滑座上开设有一加工槽。抛光组件包括升降台、设置在升降台上的升降轴、以及安装在升降轴顶部的悬臂;悬臂的末端设置有一伺服电机,该伺服电机的输出轴下端安装有一砂轮。移位组件包括一固定设置在机台上的气缸,气缸的伸缩杆与滑座连接。检测组件包括设置在机台的台面上的检测架、设置在检测架上的检测头、以及设置在机台的台面下的光敏检测仪。本装置通过光敏阵列来检测抛光后的盘片的受光量,并传送到光敏检测仪分析,从而确定盘片的研磨抛光量达不达标。

基本信息
专利标题 :
一种盘片抛光及检测装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021704339.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-08-14
授权号 :
CN212553262U
授权日 :
2021-02-19
发明人 :
李泽辉
申请人 :
台山市远鹏研磨科技有限公司
申请人地址 :
广东省江门市台山冲蒌镇红岭工业区红岭中路10号-2
代理机构 :
广州骏思知识产权代理有限公司
代理人 :
潘桂生
优先权 :
CN202021704339.7
主分类号 :
B24B29/02
IPC分类号 :
B24B29/02  B24B41/02  B24B47/12  B24B47/06  B24B49/12  B24B41/06  B24B41/04  B24D3/28  B24D7/00  
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B29/00
有或没有使用固体或液体抛光剂并利用柔软材料或挠性材料制作的工具进行工件表面抛光的机床或装置
B24B29/02
适用于特殊工件的
法律状态
2021-02-19 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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