低介电常数聚酰亚胺薄膜热处理炉
授权
摘要
本实用新型公开了低介电常数聚酰亚胺薄膜热处理炉，具体涉及热处理炉技术领域，其技术方案是：包括热处理炉，所述热处理炉上端固定安装支撑竖杆一，所述支撑竖杆一上端固定安装放卷辊，所述放卷辊内壁开设滑槽，所述放卷辊右端固定安装滑柱，所述滑柱插接在所述滑槽内壁，所述热处理炉上端开设滑道，所述支撑竖杆一安装在所述滑道内壁，所述热处理炉上端固定安装支撑竖杆二，所述支撑竖杆一右端固定安装把手，所述把手穿过所述支撑竖杆二内壁延伸至所述支撑竖杆二右端，本实用新型有益效果是：通过使辊根据聚酰亚胺薄膜的宽度改变其尺寸宽度，以及对辊进行定位，对聚酰亚胺薄膜具有定位作用。
基本信息
专利标题 ：
低介电常数聚酰亚胺薄膜热处理炉
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021710979.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-18
授权号 ：
CN213006673U
授权日 ：
2021-04-20
发明人 ：
徐作骏
申请人 ：
江阴骏友电子股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市江阴市璜土镇扬子江路(江阴临港经济开发区石化新材料产业园内)
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021710979.9
主分类号 ：
B29C71/02
IPC分类号 ：
B29C71/02 C08J5/18 C08L79/08 B29L7/00 B29K79/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B29
塑料的加工；一般处于塑性状态物质的加工
B29C
塑料的成型连接；塑性状态材或料的成型，不包含在其他类目中的；已成型产品的后处理，例如修整
B29C71/00
不改变其形状的制品后处理；所用的设备
B29C71/02
后热处理
法律状态
2021-04-20 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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