一种低介电常数的聚酰亚胺薄膜及其应用
授权
摘要
本发明提出了一种低介电常数的聚酰亚胺薄膜及其应用。所述薄膜包括聚酰亚胺和均匀分散在聚酰亚胺中的SiO2空心微球；其中，所述SiO2空心微球是通过采用壳聚糖或其衍生物为模板剂制备而成。本发明提出的一种低介电常数的聚酰亚胺薄膜，通过将SiO2空心微球均匀分散在聚酰亚胺中，不仅有效降低了聚酰亚胺的介电性能，而且使所得聚酰亚胺薄膜的力学性能也有所提升。
基本信息
专利标题 ：
一种低介电常数的聚酰亚胺薄膜及其应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112646372A
申请号 ：
CN202011373779.3
公开（公告）日 ：
2021-04-13
申请日 ：
2020-11-30
授权号 ：
CN112646372B
授权日 ：
2022-05-20
发明人 ：
曹河文许辉祝春才
申请人 ：
浙江中科玖源新材料有限公司
申请人地址 ：
浙江省金华市兰溪市兰江街道兰溪经济开发区光膜小镇
代理机构 ：
合肥金律专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
杨霞
优先权 ：
CN202011373779.3
主分类号 ：
C08L79/08
IPC分类号 ：
C08L79/08 C08K7/26 C08K9/06 C08J5/18 C08G73/10 H01L23/29
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08L
高分子化合物的组合物
C08L79/00
不包括在C08L61/00至C08L77/00组内的，由只在主链中形成含氮的，有或没有氧或碳键的反应得到的高分子化合物的组合物
C08L79/04
在主链中具有含氮杂环的缩聚物；聚酰肼；聚酰胺酸或类似的聚酰亚胺母体
C08L79/08
聚酰亚胺；聚酯-酰亚胺；聚酰胺-酰亚胺；聚酰胺酸或类似的聚酰亚胺母体
法律状态
2022-05-20 ：
授权
2021-04-30 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C08L 79/08
申请日 : 20201130
申请日 : 20201130
2021-04-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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