四氯化硅加料装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种四氯化硅加料装置,用于提供气态的四氯化硅,包括:四氯化硅储罐、输送泵、第一缓冲罐和加热机构;所述四氯化硅储罐用于存放液态的四氯化硅,所述输送泵通过管路分别连接所述四氯化硅储罐和第一缓冲罐,所述输送泵用于将所述四氯化硅储罐的四氯化硅送入所述第一缓冲罐,所述加热机构用于对所述输送泵和第一缓冲罐之间的管路进行加热以使管路内液态的四氯化硅汽化,气态的四氯化硅从所述第一缓冲罐向外送出。上述四氯化硅加料装置能够稳定、均匀地送出气态的四氯化硅。

基本信息
专利标题 :
四氯化硅加料装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021729447.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-08-18
授权号 :
CN212986772U
授权日 :
2021-04-16
发明人 :
叶高英古忠涛谢玉明
申请人 :
苏州英纳特纳米科技有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城综合楼中北区23栋214室
代理机构 :
苏州领跃知识产权代理有限公司
代理人 :
王宁
优先权 :
CN202021729447.X
主分类号 :
F17D1/02
IPC分类号 :
F17D1/02  
相关图片
IPC结构图谱
F
F部——机械工程;照明;加热;武器;爆破
F17
气体或液体的贮存或分配
F17D
管道系统;管路
F17D
管道系统;管路
F17D1/00
管道系统
F17D1/02
用于气体或蒸气的
法律状态
2021-04-16 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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