带常压等离子清洗功能的凹版移印系统
授权
摘要
本实用新型公开了一种带常压等离子清洗功能的凹版移印系统，包括传送轨道，所述传送轨道上设置有治具，所述传送轨道经过的区域依次设置有产品对齐装置、等离子清洗装置、印刷装置、烘干装置、产品取出装置和治具清洗装置，本实用新型加装等离子清洗装置，可以分解玻璃表面的油脂，去除玻璃表面吸附的水气，活化玻璃表面的硅基与氧基，使得玻璃与防爆膜材料之间的键结强化，在印刷油墨后弥补玻璃表面的微缺陷，提升良品率。
基本信息
专利标题 ：
带常压等离子清洗功能的凹版移印系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021760709.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-21
授权号 ：
CN213861287U
授权日 ：
2021-08-03
发明人 ：
赖耀升江建志
申请人 ：
恩利克（浙江）智能装备有限公司
申请人地址 ：
浙江省嘉兴市嘉善县干窑镇两创路18号1号楼一层A区
代理机构 ：
嘉兴启帆专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
王大国
优先权 ：
CN202021760709.9
主分类号 ：
B41F17/00
IPC分类号 ：
B41F17/00 B41F23/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B41
印刷；排版机；打字机；模印机
B41F
印刷机械或印刷机
B41F17/00
不包含在其他类目中的特殊类型或专用的印刷设备或机械
法律状态
2021-08-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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