低方阻透明导电膜
授权
摘要
本实用新型公开了一种低方阻透明导电膜，包括由下往上层叠设置的透明基材、折射率匹配层、过渡层、金属合金层、介质阻隔层和透明导电层，在透明基材与金属合金层之间增加了一个由折射率匹配层与过渡层二者共同组合成的基材侧的水氧阻隔层，其中过渡层的目的是给上层的金属合金层提供一个致密连续的导电层衬底，减少薄层金属的岛状不连续现象，其与高折射率材料制成的折射率匹配层共同组合成基材侧的水氧阻隔层后，有效防止金属合金层在使用过程中劣化，使整体导电膜可靠性耐候性大幅提高。同时，本实用新型在金属合金层的空气侧，增加了一层分子结构致密的介质阻隔层，有效的隔绝了水氧侵蚀，使耐环测性大大提高。
基本信息
专利标题 ：
低方阻透明导电膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021830397.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-27
授权号 ：
CN212392012U
授权日 ：
2021-01-22
发明人 ：
吕敬波陈超于佩强刘世琴
申请人 ：
江苏日久光电股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山周庄镇锦周公路509号
代理机构 ：
苏州科仁专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
郭杨
优先权 ：
CN202021830397.4
主分类号 ：
H01B5/14
IPC分类号 ：
H01B5/14
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01B
电缆；导体；绝缘体；导电、绝缘或介电材料的选择
H01B5/00
按形状区分的非绝缘导体或导电物体
H01B5/14
在绝缘支承物上有导电层或导电薄膜的
法律状态
2021-01-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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