一种激光线光源的光束整形系统
授权
摘要
本实用新型公开了一种激光线光源的光束整形系统,包括激光器,还包括扩/缩束准直系统,线光源产生系统,平行准直系统和聚焦系统;扩/缩束准直系统用于改变高斯光束的直径和优化光束的发散角,线光源产生系统用于得到在纵向上以固定角度发散、能量均匀分布的线光源,平行准直系统用于得到在纵向上平行传输、能量均匀分布的线光源,聚焦系统用于得到在纵向上平行传输、能量均匀分布,横向上会聚的线光源。本实用新型可以极大地优化线光斑能量分布的不均匀性,将高斯光斑整形为沿长轴方向能量均匀分布的线光斑,能量分布的不均匀性小于10%。
基本信息
专利标题 :
一种激光线光源的光束整形系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021839795.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-08-28
授权号 :
CN212808809U
授权日 :
2021-03-26
发明人 :
余洋冯叶杨春雷
申请人 :
深圳先进电子材料国际创新研究院
申请人地址 :
广东省深圳市宝安区福永街道龙王庙工业区
代理机构 :
北京市诚辉律师事务所
代理人 :
范盈
优先权 :
CN202021839795.2
主分类号 :
G02B27/09
IPC分类号 :
G02B27/09
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B27/00
不能分入G02B 1/00-G02B 26/00,G02B 30/00的其它光学系统或其它光学仪器
G02B27/09
其他位置不包括的光束整形,例如改变横截面积
法律状态
2021-03-26 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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