一种浅地层剖面仪导流罩
授权
摘要
一种浅地层剖面仪导流罩,包括导流罩主体,导流罩主体内壁中部的两侧分别开设透槽,透槽内分别活动安装滑块,导流罩主体内壁一侧的底部固定连接支撑板的一侧,支撑板的另一侧与导流罩主体内壁另一侧的底部固定连接,支撑板的顶面固定安装电机,电机的输出端固定连接圆盘的底面,圆盘顶面的偏心处固定安装立柱,滑块的内侧分别铰接连接推杆的一端,推杆的另一端分别与立柱通过轴承转动连接。本实用新型通过电机、圆盘、推杆、滑块等结构之间的相互配合,能够使两个滑块交替移动到相应的透槽的外侧,对流经导流罩主体的水流产生阻碍的效果,从而破坏了涡激振动产生的必要条件消除涡激振动,从而避免了涡激振动对剖面仪产生的影响。
基本信息
专利标题 :
一种浅地层剖面仪导流罩
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021868364.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-09-01
授权号 :
CN211783417U
授权日 :
2020-10-27
发明人 :
艾明刚黄柄粟田丰杨建梁郁奇郑铭一李辉秦昊文
申请人 :
山东海盛海洋工程集团有限公司
申请人地址 :
山东省东营市东营港经济开发区仙河镇黑龙江路
代理机构 :
济南旌励知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
单玉刚
优先权 :
CN202021868364.9
主分类号 :
G01C7/02
IPC分类号 :
G01C7/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01C
测量距离、水准或者方位;勘测;导航;陀螺仪;摄影测量学或视频测量学
G01C7/00
断面描绘
G01C7/02
大地表面的
法律状态
2020-10-27 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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