一种镍扣自动清洗装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种镍扣自动清洗装置，包括清洗笼、清洗机架、储液槽和电机；储液槽固定在清洗机架内，其中盛放有清洗溶液；清洗笼水平设置于储液槽上方，其下方浸于储液槽内的液体中，且清洗笼的中心固定穿设有中心轴；电机固定在清洗机架一侧，且电机的输出轴与清洗笼的中心轴一端固定连接，清洗笼的中心轴另一端经轴承座与清洗机架固定连接，电机转动可带动清洗笼在储液槽上方转动，进而带动清洗笼中的镍扣翻滚并周期性的浸入储液槽内进行清洗。清洗机架上电机所在一侧固定有第一升降机构，第一升降机构工作可带动电机升降；清洗机架上轴承座所在一侧固定有第二升降机构，第二升降机构工作可带动轴承座升降，实现了镍扣的自动清洗。
基本信息
专利标题 ：
一种镍扣自动清洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021930433.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-07
授权号 ：
CN212625513U
授权日 ：
2021-02-26
发明人 ：
刘进张晓博
申请人 ：
宝鸡康控新材料科技有限公司
申请人地址 ：
陕西省宝鸡市眉县霸王河工业园区
代理机构 ：
西安知诚思迈知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
麦春明
优先权 ：
CN202021930433.4
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2021-02-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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