金属基材碳纳米膜材料制造设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种金属基材碳纳米膜材料制造设备包括真空反应炉、高频电源、供气装置以及抽真空装置，同时还公开基于上述设备的金属基材碳纳米膜制备方法，利用碳元素化学气相沉积法及碳元素磁控溅射法在金属基材表面生成一层具有SP2和SP3杂化混合结构碳纳米膜，此种金属基材碳纳米膜材料在光照和施加电场时对水分子有强催化作用，此外此种碳纳米膜具有优良的导电、防腐、抑菌等特性，此种金属基材碳纳米膜材料在污水治理、水处理、大气治理、表面防腐、保健医疗等领域均有广泛的应用前景。
基本信息
专利标题 ：
金属基材碳纳米膜材料制造设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021941511.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-08
授权号 ：
CN212404272U
授权日 ：
2021-01-26
发明人 ：
王亚普刘铁林高硕欧阳光友田霆王海涛刘红涛李来喜赵建泽繆建峰黎明孙福亭
申请人 ：
河北美普兰地环保科技有限公司
申请人地址 ：
河北省保定市新市区时代路56号1801（国贸大厦1801-5室）
代理机构 ：
北京圣州专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
王振佳
优先权 ：
CN202021941511.0
主分类号 ：
C23C16/26
IPC分类号 ：
C23C16/26 C23C16/503
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/22
以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C16/26
仅沉积碳
法律状态
2021-01-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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