一种可调节纳米晶带材用打磨抛光装置
授权
摘要
本实用新型提供一种可调节纳米晶带材用打磨抛光装置，包括支撑套座、压缩弹簧、支撑板、下导向轮、伸缩座、左可调杆以及左定位套座，支撑板前侧套装有下导向轮，操作台上端面中间位置安装有支撑套座，支撑套座内部上侧卡套有伸缩座，伸缩座下端面左右两侧对称卡装有压缩弹簧，支撑延伸板上端面左侧安装有左定位套座，左定位套座内部中间位置穿插有左可调杆，该设计解决了原有打磨抛光装置不方便进行上下调节，并且导向性欠佳的问题，本实用新型结构合理，具备上下可调能力，并且导向打磨抛光效果好，实用性强。
基本信息
专利标题 ：
一种可调节纳米晶带材用打磨抛光装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021974346.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-11
授权号 ：
CN212947118U
授权日 ：
2021-04-13
发明人 ：
杨水华邱菊
申请人 ：
南通华禄新材料科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省南通市通州区石港镇石东村8幢
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021974346.9
主分类号 ：
B24B27/00
IPC分类号 ：
B24B27/00 B24B41/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B27/00
其他磨床或装置
法律状态
2021-04-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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