一种原位拉曼光谱检测的蒸发镀膜设备
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摘要
一种原位拉曼光谱检测的蒸发镀膜设备，包括端盖、热蒸发腔体、膜厚检测机构、热蒸发机构以及真空机构，端盖连接在镀膜室上，端盖上设有拉曼检测口、光电组件以及观察窗，热蒸发腔体位于端盖上，膜厚检测机构、膜厚检测机构用于检测基片镀膜的厚度，真空机构用于将热蒸发腔体内进行真空，热蒸发机构包括动力磁力转轴、挡片、母水冷电极、多组子水冷电极以及多个蒸发舟，蒸发舟分别连接在母水冷电极与各组子水冷电极之间，动力磁力转轴的一端延伸至热蒸发腔体内与挡片连接，动力磁力转轴驱动挡片在水平面上转动以使挡片遮挡任一一个蒸发舟；本实用新型优点在于能够分别在同腔体内对多种不同膜料的热蒸发以及能将镀膜后的基片进行拉曼光谱检测。
基本信息
专利标题 ：
一种原位拉曼光谱检测的蒸发镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021975812.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-10
授权号 ：
CN212270222U
授权日 ：
2021-01-01
发明人 ：
金炯张金徽王山
申请人 ：
浙江赛威科光电科技有限公司
申请人地址 ：
浙江省湖州市德清县雷甸镇白云南路866号9号楼D101室
代理机构 ：
北京沁优知识产权代理有限公司
代理人 ：
林捷达
优先权 ：
CN202021975812.5
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/54 C23C14/56 C23C14/14 G01N21/65
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IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2021-01-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
CN212270222U.PDF
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