一种快速调节真空吸嘴机构
授权
摘要
本实用新型公开了一种快速调节真空吸嘴机构，包括：支架，包括平台部和四条支臂，支臂与平台部连接向外延伸，所述支架为X形；线性滑轨，分别固定于支臂上；滑块，分别滑动固定于线性滑轨上，滑块可沿线性滑轨滑动；吸嘴，分别固定于滑块上，所述吸嘴与滑块同步运动；转动部，通过铰接轴转动固定于平台部的中心处，转动部可相对于支架转动；连杆，用于连接转动部和滑块，连杆两端分别与转动部和滑块铰接，所述转动部通过连杆驱动滑块。
基本信息
专利标题 ：
一种快速调节真空吸嘴机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022044471.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-17
授权号 ：
CN213212140U
授权日 ：
2021-05-14
发明人 ：
何丹周丽云
申请人 ：
深圳市索恩达电子有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区航城街道黄田社区广宇工业园1栋2层、三栋一层之一
代理机构 ：
深圳金伟创新专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
李靓
优先权 ：
CN202022044471.6
主分类号 ：
H01L21/683
IPC分类号 ：
H01L21/683 H01L21/68
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/683
用于支承或夹紧的
法律状态
2021-05-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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