一种用于面蒸发源的冷却缓存室
授权
摘要
本实用新型公布一种用于面蒸发源的冷却缓存室，包括CDA系统、冷却室、冷却装置和可伸缩夹持装置；所述CDA系统通过通入管道连接所述冷却室，所述CDA系统用于通入压缩气体来对金属薄片降温；所述冷却室还设置有排出管道，所述排出管道用于排出CDA系统通入的压缩气体；所述冷却室设置有阀门，所述可伸缩夹持装置和所述冷却装置设置在所述冷却室中；所述可伸缩夹持装置用于夹取金属薄片到冷却装置上；所述冷却装置包括下冷却板，所述下冷却板用于承载金属薄片并对其冷却上述技术方案可以确保蒸镀膜层的厚度和膜层的均匀性，而且还可以延长金属薄片的使用寿命。
基本信息
专利标题 ：
一种用于面蒸发源的冷却缓存室
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022118063.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-24
授权号 ：
CN213357724U
授权日 ：
2021-06-04
发明人 ：
黄逸臻张梦姿孙玉俊
申请人 ：
福建华佳彩有限公司
申请人地址 ：
福建省莆田市涵江区涵中西路1号
代理机构 ：
福州市景弘专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
林祥翔
优先权 ：
CN202022118063.0
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/12 C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2021-06-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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