一种抗拉伸的高分子覆型离型膜
授权
摘要
本实用新型公开了一种抗拉伸的高分子覆型离型膜，包括：第一离型膜层，硅胶层，第二离型膜层，其中，所述第一离型膜层与第二离型膜层分别设置于所述硅胶层的两面，所述第一离型膜层、硅胶层、第二离型膜层的内部分别设置有玻纤布；本实用新型通过第一离型膜层、硅胶层、第二离型膜层的设置，利用硅胶层良好的覆型作用，及芳纶制成的第一离型膜层、第二离型膜层的一定的覆型和离型作用，实现离型功能，在各层中间设置玻纤布，能够有效提升压合辅助膜的抗拉伸强度，起到稳定压合辅助垫和电路板涨缩的效果，提升电路板压合加工品质，且辅助膜本身的抗拉伸强度增强，反复应用的次数将增加，能够节约电路板压合的物料成本。
基本信息
专利标题 ：
一种抗拉伸的高分子覆型离型膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022168947.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-28
授权号 ：
CN212910269U
授权日 ：
2021-04-06
发明人 ：
蔡高明杨桂林
申请人 ：
深圳市瑞昌星科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区石岩街道骏业工业园A11栋
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202022168947.7
主分类号 ：
H05K3/46
IPC分类号 ：
H05K3/46
法律状态
2021-04-06 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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