一种高分子防溢胶覆型离型膜
授权
摘要
本实用新型公开了一种高分子防溢胶覆型离型膜，包括：第一离型膜层，覆型层，第二离型膜层，其中，第一离型膜层与第二离型膜层大小相等，覆型层小于第一离型膜层或第二离型膜层，第一离型膜层、覆型层、第二离型膜层均为长方形，第一离型膜层与第二离型膜层分别附着于覆型层的两面，覆型层的平面中心与第一离型膜层或第二离型膜层的平面中心重叠；本实用新型提供的高分子防溢胶覆型离型膜，能够有效解决内层铜厚较厚的多层电路板的热压合加工时覆型层溢胶到电路板板面或钢板板面的问题，并能够提高电路板热压合的平整性，提升多层电路板热压合的品质。
基本信息
专利标题 ：
一种高分子防溢胶覆型离型膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022171299.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-28
授权号 ：
CN212910270U
授权日 ：
2021-04-06
发明人 ：
蔡高明杨桂林
申请人 ：
深圳市瑞昌星科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区石岩街道骏业工业园A11栋
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202022171299.0
主分类号 ：
H05K3/46
IPC分类号 ：
H05K3/46
法律状态
2021-04-06 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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