一种去除水厂工艺流程中难去除抗生素的系统

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摘要

本实用新型属于水处理领域，具体公开了一种去除水厂工艺流程中难去除抗生素的系统，包括混凝池、沉积池、砂滤池、UV装置以及活性炭工艺装置，上述装置依次串联连；即砂滤后的处理水流进所述UV装置，所述UV装置内设消毒舱、控制柜与化学清洁系统；水流通过进水法兰进入消毒舱，进水法兰与石英套管相连，石英套管上方设置一UVGI灯管，经UVGI灯管消毒后，被处理过的水通过出口法兰流出所述UV装置；所述UV装置后连接一活性炭工艺装置，活性炭工艺装置底部连接出水管。本实用新型以紫外光反应与双氧水氧化共同发挥作用，充分发挥二者的优势，对废水中抗生素进行降解，降解速率快，降解效率高，而且原料成本低，副产物无毒害。

基本信息

专利标题：

一种去除水厂工艺流程中难去除抗生素的系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202022208197.1

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-10-01

授权号：

CN213475668U

授权日：

2021-06-18

发明人：

夏萍张双翼叶辉王铮朱文滨

申请人：

上海城市水资源开发利用国家工程中心有限公司

申请人地址：

上海市杨浦区许昌路230号1幢

代理机构：

上海国智知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

潘建玲

优先权：

CN202022208197.1

主分类号：

C02F9/08

IPC分类号：

C02F9/08 C02F101/38 C02F101/36 C02F101/34 C02F101/30