一种干冰微粒喷射清洗装置
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摘要
本实用新型提供一种干冰微粒喷射清洗装置，涉及干冰清洗领域。该干冰微粒喷射清洗装置，包括支撑固定机箱和干冰微粒喷射机架，所述支撑固定机箱的前端固定安装有控制面板，所述支撑固定机箱的下端固定安装有一号支撑底块，每组一号支撑底块远离支撑固定机箱的一端均活动安装有支撑滚轮，所述支撑固定机箱的上端开设有一号限位滑槽，所述一号限位滑槽的右端开设有二号限位滑槽。该干冰微粒喷射清洗装置，利用从可移动喷嘴高速喷出的干冰颗粒射流，与由旋转托盘带动高速旋转的半导体零部件上的杂质间的能量转移，同时利用液体CO2的良好的溶解性，对半导体零部件表面的杂质，包括颗粒、有机物、金属等进行有效的清洗。
基本信息
专利标题 ：
一种干冰微粒喷射清洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022263761.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-12
授权号 ：
CN213316609U
授权日 ：
2021-06-01
发明人 ：
薛弘宇陈开清刘兴明程阳周建国
申请人 ：
江苏凯威特斯半导体科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市锡山经济技术开发区团结路31号
代理机构 ：
无锡苏元专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
吴忠义
优先权 ：
CN202022263761.X
主分类号 ：
B08B7/00
IPC分类号 ：
B08B7/00
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B7/00
不包含在其他小类或本小类的其他组中的清洁方法
法律状态
2021-06-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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