一种半导体材料研磨机
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摘要

本实用新型涉及半导体加工技术领域,具体涉及一种半导体材料研磨机,包括:机座,所述机座顶部设有下研磨器,所述下研磨器的顶部具有水平直线运动的研磨平面;上研磨器,所述上研磨器通过调节支架设置在所述机座上方,所述上研磨器的底部具有垂直于所述上研磨器工作方向的水平研磨平面;中间定位片,所述中间定位片水平设置在所述下研磨器和所述上研磨器之间,并且所述中间定位片的中央设有同时对应所述下研磨器及所述上研磨器研磨平面的模孔;控制器,所述下研磨器的第一驱动器及所述上研磨器的第二驱动器分别与所述控制器电性连接,所述控制器与电源电性连接。本实用新型分别对半导体材料的两个面进行研磨,从而省去人工拆装半导体材料的步骤,提高了半导体材料的加工效率。

基本信息
专利标题 :
一种半导体材料研磨机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022299261.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-10-15
授权号 :
CN213411521U
授权日 :
2021-06-11
发明人 :
邢杰李娟廖安然
申请人 :
西安英诺维特新材料有限公司
申请人地址 :
陕西省西安市航天基地工业二路299号西安建工科技创业基地3号楼5层1号厂房
代理机构 :
北京东灵通专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
朱玲
优先权 :
CN202022299261.1
主分类号 :
B24B21/04
IPC分类号 :
B24B21/04  B24B21/18  B24B49/00  B24B41/06  
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B21/00
使用磨削或抛光带的机床或装置;以及附件
B24B21/04
用于磨削平面
法律状态
2021-06-11 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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