一种微电子工业园区综合污水集中处理系统
授权
摘要
本实用新型公开了一种微电子工业园区综合污水集中处理系统，包括调节池、除氟反应池、污泥混凝池、磁混凝池、絮凝池、沉淀池、水解酸化池、厌氧池、MABR池、MBBR池、二沉池、气浮滤池、臭氧氧化池、消毒池，本实用新型采用化学除氟、磁絮凝以及污泥吸附相结合的方法除去污水中的氟化物、重金属等有毒物质，减小氟化物和重金属等有毒物质对后续活性污泥的影响，提高生化系统稳定性，并将MBBR池部分污泥混合液回流到MABR池，在MABR池中投加碳源，强化反硝化脱氮过程，有效地提高微电子工业园区综合性污水中TP、TN、COD、氟化物、重金属等污染物的去除率，满足出水水质排放标准。
基本信息
专利标题 ：
一种微电子工业园区综合污水集中处理系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022331351.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-20
授权号 ：
CN213680276U
授权日 ：
2021-07-13
发明人 ：
耿洪鑫韩宁王俊浦刘爽凌宇航
申请人 ：
耿洪鑫
申请人地址 ：
天津市滨海新区中新天津生态城美逸园2号楼1102
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202022331351.4
主分类号 ：
C02F9/14
IPC分类号 ：
C02F9/14 C02F101/20 C02F101/14 C02F101/30
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F9/00
水、废水或污水的多级处理
C02F9/14
至少有一个生物处理步骤
法律状态
2021-07-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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