—种金刚石MPCVD设备用冷却装置
授权
摘要
本实用新型提供—种金刚石MPCVD设备用冷却装置，涉及冷却装置技术领域，包括主机体，主机体的一侧侧壁开设有散热孔，主机体的侧壁活动连接有散热箱，散热箱靠近主机体的一侧侧壁固定安装有散热中空柱，散热箱的内部固定连接有冷却散热装置，冷却散热装置的内部设置有卡扣组件。本实用新型，可以将风冷的散热与水冷的冷却相互配合，提高了散热效果，散热箱搭配散热中空柱的设定使整个金刚石MPCVD设备用冷却装置以外部插设的形式进行连接，避免了金刚石MPCVD设备用冷却装置损坏时因拆装而耗费的人力物力，随时更换的情况让金刚石MPCVD设备用冷却装置的拆装变得简单，使在需要对水泵进行更换或清洗时的拆装变得方便快捷。
基本信息
专利标题 ：
—种金刚石MPCVD设备用冷却装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022370248.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-22
授权号 ：
CN214004782U
授权日 ：
2021-08-20
发明人 ：
满卫东龚闯朱长征吴剑波蒋梅荣
申请人 ：
上海征世科技股份有限公司
申请人地址 ：
上海市青浦区华浦路500号2幢西侧
代理机构 ：
上海精晟知识产权代理有限公司
代理人 ：
周琼
优先权 ：
CN202022370248.0
主分类号 ：
C23C16/511
IPC分类号 ：
C23C16/511 C23C16/27 F25D31/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/50
借助放电的
C23C16/511
采用微波放电
法律状态
2021-08-20 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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