一种光阻机基板应力消除机构
授权
摘要
本实用新型公开了一种光阻机基板应力消除机构,属于板材应力消除技术领域,该应力消除机构包括上压模、下顶模,所述的冲压板下表面设置有微矩阵结构冲压组件,上压模上下移动与下顶模相配合对基板进行微矩阵冲压;所述的下顶模包括用于承托基板的承托板,在所述的承托板表面活动装配有限位机构,限位机构之间相互配合对基板进行限位;本实用新型中的限位机构的位置可调节,实现了对不同尺寸的基板进行限位固定,另外,限位机构的侧壁上设置有导向槽,基板微矩阵冲压时稳定性较好,本实用新型中的上压模以及下顶模上设置有相互装配的固定杆和导向筒,大大提高了基板微矩阵冲压的精度,操作方便。
基本信息
专利标题 :
一种光阻机基板应力消除机构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022399377.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-10-26
授权号 :
CN214400630U
授权日 :
2021-10-15
发明人 :
钟兴进
申请人 :
广州市鸿浩光电半导体有限公司
申请人地址 :
广东省广州市增城区新塘镇荔新十二路96号9幢103房
代理机构 :
广州正驰知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
洪安鹏
优先权 :
CN202022399377.2
主分类号 :
C21D7/10
IPC分类号 :
C21D7/10 C22F1/00
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C21
铁的冶金
C21D
改变黑色金属的物理结构;黑色或有色金属或合金热处理用的一般设备;使金属具有韧性,例如通过脱碳或回火
C21D7/00
通过变形改变铁或钢的物理性能
C21D7/02
通过冷加工法
C21D7/10
整个横断面的,例如混凝土钢筋的
法律状态
2021-10-15 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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