具有双串联冷却槽的气体喷射器
授权
摘要
本实用新型为一种具有双串联冷却槽的气体喷射器，包括一第一冷却模块包括复数第一冷却槽之间以同心圆层叠环绕设置，且相邻的第一冷却槽之间设有一第一导流口，第一冷却模块外环设有一阻隔层，其外更环设有一第二冷却模块，其包括复数第二冷却槽之间以同心圆层叠环绕设置，且相邻的第二冷却槽之间设有一第二导流口，每一第一冷却槽与每一第二冷却槽内还设有多条喷气管，且喷气管的开口露出于第一冷却槽与第二冷却槽外。本实用新型可令每一喷气管浸泡于冷却液中，且能分区控制喷气管的温度。
基本信息
专利标题 ：
具有双串联冷却槽的气体喷射器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022427120.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-27
授权号 ：
CN214218854U
授权日 ：
2021-09-17
发明人 ：
吴铭钦刘峰
申请人 ：
苏州雨竹机电有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市中国(江苏)自由贸易试验区苏州片区苏州工业园区苏虹中路39号2幢2楼西侧
代理机构 ：
北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
李林
优先权 ：
CN202022427120.3
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455 H01L21/67
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2021-09-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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