一种用于制备杂化碳纳米管纤维的CVD反应装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种用于制备杂化碳纳米管纤维的CVD反应装置，包括雾化器、气源、多管联排CVD反应器、管式炉和薄膜收集装置，多管联排CVD反应器直接安装在所述管式炉内，该多管联排CVD反应器内的每个小反应管进口端分别独立连接一个雾化器，雾化器包括雾化腔体以及设置在雾化腔体内部顶端的雾化喷头，该雾化喷头通过输液管道连接溶液储罐，在雾化腔体一侧设置的载气入口通过进气管道连接气源，其另一侧的设置的载气出口通过出气管道连接小反应管进口端，通过人工将形成杂化碳纳米管管束引导至薄膜收集装置内；本实用新型结构简单，通过调节溶液的组分、雾化液滴的大小和气体流量，可一次性制备具有不同结构的高性能杂化碳纳米管薄膜。
基本信息
专利标题 ：
一种用于制备杂化碳纳米管纤维的CVD反应装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022478388.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-29
授权号 ：
CN213951341U
授权日 ：
2021-08-13
发明人 ：
沈健民王博曾培源李建稳
申请人 ：
南京源昌新材料有限公司
申请人地址 ：
江苏省南京市六合区雄州街道王桥路59号
代理机构 ：
南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
任立
优先权 ：
CN202022478388.X
主分类号 ：
C23C16/54
IPC分类号 ：
C23C16/54 C23C16/26 C23C16/52 B22F9/26 B22F1/00 B82Y30/00 B82Y40/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/54
连续镀覆的专用设备
法律状态
2021-08-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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