化学液浓度控制系统和清洗装置
授权
摘要
本实用新型实施例公开了一种化学液浓度控制系统和清洗装置，该化学液浓度控制系统包括储液模块，储液模块用于储存化学液，化学液中溶有至少一种化学品；至少一条化学品输送管路，用于向储液模块输送化学品，化学品输送管路上设置有流量计；浓度测量模块，用于测量化学液的浓度；流量控制模块，流量控制模块分别与流量计、浓度测量模块连接，用于根据流量计测得的当前流量数据、浓度测量模块测得的当前浓度数据和目标浓度控制化学品输送管路的流量。本实用新型实施例通过流量控制模块根据当前流量数据、当前浓度数据和目标浓度控制化学品输送管路的流量以使清洗晶片的化学液始终维持在目标浓度，进而保证对晶片完全且适度清洗。
基本信息
专利标题 ：
化学液浓度控制系统和清洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022501325.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-11-02
授权号 ：
CN214203615U
授权日 ：
2021-09-14
发明人 ：
李嘉伦杨昱霖许忠晖苏财宝
申请人 ：
泉芯集成电路制造（济南）有限公司
申请人地址 ：
山东省济南市高新区机场路7617号411-2-9室
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
孟金喆
优先权 ：
CN202022501325.1
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2021-09-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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