半导体清洗机化学品浓度控制系统
授权
摘要
本实用新型公开一种半导体清洗机化学品浓度控制系统，包括化学清洗池、纯水池、化学品池、废水池和化学浓度检测计，其中，化学浓度检测计安装在化学清洗池内；所述纯水池、化学品池和废水池均通过管路与化学清洗池连通，其中，废水池通过管路与化学清洗池底部连通；所述纯水池与化学清洗池之间的管路上连接有第一流量计和第一电磁阀；所述化学品池与化学清洗池之间的管路上连接有第二流量计和第二电磁阀；所述废水池与化学清洗池之间的管路上连接有第三流量计和第三电磁阀；所述流量计、电磁阀和化学浓度检测计分别与控制器电连接。本实用新型能够始终控制化学清洗池内的化学品浓度在要求的范围内，保证清洗后硅片的质量。
基本信息
专利标题 ：
半导体清洗机化学品浓度控制系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122857117.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-22
授权号 ：
CN216486150U
授权日 ：
2022-05-10
发明人 ：
徐晨鸽
申请人 ：
徐州鑫晶半导体科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省徐州市金山桥开发区鑫芯路1号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202122857117.X
主分类号 ：
G05D11/13
IPC分类号 ：
G05D11/13 B08B3/08 B08B3/10
IPC结构图谱
G
G部——物理
G05
控制；调节
G05D
非电变量的控制或调节系统
G05D11/00
流量比率控制入G05D21/00；湿度控制入G05D22/00；黏度控制入G05D24/00）
G05D11/02
两个或两个以上流动的流体或液态材料的比率控制
G05D11/13
以使用电装置为特征的
法律状态
2022-05-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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