一种用于硅抛光片清洗机的控制化学液浓度的装置

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摘要

本实用新型的一种用于硅抛光片清洗机的控制化学液浓度的装置，包括两两相连通的清洗槽、循环管路、补液管路，所述清洗槽由相嵌设置的内槽、外槽组成，所述循环管路由循环泵、过滤器、加热器组成，所述补液管路由氨水浓度计、双氧水浓度计、控制模组、氨水计量泵、双氧水计量泵组成，氨水计量泵、双氧水计量泵的出口管路均接入到所述内槽中；该装置可以精确、有效控制清洗液中化学品的浓度，实现硅片表面颗粒杂质优良的去除效率和产品品质提高清洗机对硅片的清洗效果，实现硅抛光片表面的高洁净度要求；实现了硅片清洗机对硅片表面优良的颗粒去除效果和产品质量。提高了产品收率，减少了经济损失，明显地提高了工作效率。

基本信息

专利标题：

一种用于硅抛光片清洗机的控制化学液浓度的装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921506066.2

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-09-11

授权号：

CN210876527U

授权日：

2020-06-30

发明人：

熊诚雷郭可张倩

申请人：

麦斯克电子材料有限公司

申请人地址：

河南省洛阳市高新技术产业开发区滨河北路99号

代理机构：

洛阳公信知识产权事务所(普通合伙)

代理人：

李真真

优先权：

CN201921506066.2

主分类号：

B08B3/08

IPC分类号：

B08B3/08 B08B3/10 B08B13/00 H01L21/67 G05D11/13