光场投影仪装置
实质审查的生效
摘要
描述了输出光场的光场投影仪装置。投影仪具有投影仪底座,投影仪底座具有被配置为输出光线以形成投影图像的投影光学系统、被配置为将投影图像光线准直以形成第二投影图像的准直光学系统,该第二投影图像被引导至显示光学系统产生光场图像。光场投影仪装置可以单独使用或与一个或多个其他投影仪组合使用,这些投影仪可以布置成形成直接投影光场显示器。光场投影仪装置的布置可以具有单独的或共享的显示光学系统。投影仪装置旨在提供高像素密度,提供看起来清晰且非像素化的图像。
基本信息
专利标题 :
光场投影仪装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114556193A
申请号 :
CN202080057199.5
公开(公告)日 :
2022-05-27
申请日 :
2020-08-14
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
J·佩克汉姆D·韦伯
申请人 :
阿瓦龙全息照相技术股份公司
申请人地址 :
加拿大纽芬兰与拉布拉多省
代理机构 :
余姚德盛专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
周积德
优先权 :
CN202080057199.5
主分类号 :
G02B27/18
IPC分类号 :
G02B27/18 G02B27/30 G02B30/00 G09F19/18 G09F9/30
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B27/00
不能分入G02B 1/00-G02B 26/00,G02B 30/00的其它光学系统或其它光学仪器
G02B27/18
用于光学投影,例如,反光镜和聚光镜及物镜的组合
法律状态
2022-06-14 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 27/18
申请日 : 20200814
申请日 : 20200814
2022-05-27 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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