气化供给装置
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种气化供给装置(1)，具备：预加热部(2)，其对液体原料(L)进行预加热；气化部(3)，其配置于所述预加热部(2)的上部，且对从所述预加热部(2)送出的已被预加热的所述液体原料(L)进行加热并使其气化；流量控制装置(4)，其配置于所述气化部(3)的上部，用于对从所述气化部(3)所送出的气体(G)的流量进行控制；以及加热器(5)，其对所述预加热部(2)、所述气化部(3)以及所述流量控制装置(4)进行加热。
基本信息
专利标题 ：
气化供给装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114269966A
申请号 ：
CN202080059115.1
公开（公告）日 ：
2022-04-01
申请日 ：
2020-09-03
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
中谷贵纪日高敦志德田伊知郎中辻景介
申请人 ：
株式会社富士金
申请人地址 ：
日本国大阪府
代理机构 ：
北京五洲洋和知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘春成
优先权 ：
CN202080059115.1
主分类号 ：
C23C16/448
IPC分类号 ：
C23C16/448 C23C16/455 C23C16/52
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/448
产生反应气流的方法，例如通过母体材料的蒸发或升华
法律状态
2022-04-19 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 16/448
申请日 : 20200903
申请日 : 20200903
2022-04-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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