具有多个图案化辐射吸收元素和/或竖直组成梯度的光致抗蚀剂
实质审查的生效
摘要
本文的各种实施方案涉及用于在衬底上沉积光致抗蚀剂材料的技术。例如，这些技术可涉及在反应室中提供该衬底；将第一及第二反应物提供至该反应室，其中所述第一反应物为具有化学式M1aR1bL1c的有机金属前体，其中：M1为具有高图案化辐射吸收截面的金属，R1为有机基团，其在所述第一反应物与所述第二反应物之间的所述反应后保留，且能在暴露于图案化辐射下从Ml裂解，L1为与所述第二反应物反应的配体、离子、或其他部分，a≥1，b≥1，且c≥1，且其中满足以下条件中的至少一者：光致抗蚀剂材料包含两或更多高图案化辐射吸收元素、和/或所述光致抗蚀剂材料包含沿着所述光致抗蚀剂材料的厚度的组成梯度。
基本信息
专利标题 ：
具有多个图案化辐射吸收元素和/或竖直组成梯度的光致抗蚀剂
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114270266A
申请号 ：
CN202080059412.6
公开（公告）日 ：
2022-04-01
申请日 ：
2020-06-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
蒂莫西·威廉·威德曼凯文·利·顾卡蒂·林恩·纳尔迪吴呈昊鲍里斯·沃洛斯基埃里克·卡尔文·汉森
申请人 ：
朗姆研究公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
上海胜康律师事务所
代理人 ：
李献忠
优先权 ：
CN202080059412.6
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16 G03F7/004
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2022-04-19 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/16
申请日 : 20200624
申请日 : 20200624
2022-04-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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