利用照射的器件图案化
专利权的视为放弃
摘要
在一个实施例中，提供了一种用于在有机电子器件的一层中形成图案的方法以及通过该方法制造的器件和子组件，该方法包括选择性地照射该层的一部分。
基本信息
专利标题 ：
利用照射的器件图案化
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101438430A
申请号 ：
CN200580044619.1
公开（公告）日 ：
2009-05-20
申请日 ：
2005-12-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
S·普拉卡什N·特罗昂
申请人 ：
E.I.内穆尔杜邦公司
申请人地址 ：
美国特拉华州
代理机构 ：
上海专利商标事务所有限公司
代理人 ：
朱黎明
优先权 ：
CN200580044619.1
主分类号 ：
H01L51/00
IPC分类号 ：
H01L51/00 H01L51/56 G03F7/20
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法律状态
2012-06-13 ：
专利权的视为放弃
号牌文件类型代码 : 1606
号牌文件序号 : 101264110770
IPC(主分类) : H01L 51/00
专利申请号 : 2005800446191
放弃生效日 : 20090520
号牌文件序号 : 101264110770
IPC(主分类) : H01L 51/00
专利申请号 : 2005800446191
放弃生效日 : 20090520
2009-07-15 ：
实质审查的生效
2009-05-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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