用于非静态系统的模型管理
公开
摘要
一种改善物理过程的质量和产量中的至少一个的方法，包括：从所述物理过程的相应执行获得与所述物理过程相关联的多个变量的值；确定表示针对所述物理过程的所述执行的所述变量的所述值的至少一个高斯混合模型(GMM)；至少部分地基于所述至少一个GMM，针对所述物理过程的所述执行中的至少一个执行计算所述变量中的至少一个变量的至少一个异常分数；基于所述至少一个异常分数，将所述物理过程的执行中的所述至少一个执行标识为异常值；以及至少部分地基于所述异常值的识别，针对所述物理过程的一次或多次后续执行修改所述变量中的所述至少一个变量。
基本信息
专利标题 ：
用于非静态系统的模型管理
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114303235A
申请号 ：
CN202080059534.5
公开（公告）日 ：
2022-04-08
申请日 ：
2020-10-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
D·T·潘R·J·巴塞曼F·A·蒂普N·恩古延R·穆拉里德哈尔
申请人 ：
国际商业机器公司
申请人地址 ：
美国纽约
代理机构 ：
中国贸促会专利商标事务所有限公司
代理人 ：
申发振
优先权 ：
CN202080059534.5
主分类号 ：
H01L21/66
IPC分类号 ：
H01L21/66
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/66
在制造或处理过程中的测试或测量
法律状态
2022-04-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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