用于电光装置的包层
公开
摘要
经由检测电学和光学性质对钻孔进行成像的传感器会受到井下恶劣条件的影响，诸如压力和温度。此外，这些传感器会受到冲击，诸如沿所述钻孔的壁的张力、伸长和压缩力。所述井下恶劣条件和对所述传感器的冲击会导致过早磨损甚至断裂。本发明总体上涉及一种用于测量所述钻孔的电学和光学性质的设备以及用于制造所述设备的方法。
基本信息
专利标题 ：
用于电光装置的包层
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114341463A
申请号 ：
CN202080061549.5
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2020-08-20
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
J·瓦尔基M·格里桑迪D·金Q·黄
申请人 ：
斯伦贝谢技术有限公司
申请人地址 ：
荷兰海牙
代理机构 ：
北京世峰知识产权代理有限公司
代理人 ：
卓霖
优先权 ：
CN202080061549.5
主分类号 ：
E21B47/135
IPC分类号 ：
E21B47/135 G02B6/44
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E21
土层或岩石的钻进；采矿
E21B
土层或岩石的钻进；从井中开采油、气、水、可溶解或可熔化物质或矿物泥浆
E21B47/00
测量钻孔或井
E21B47/12
从井中到地面或从地面到井中传输测量信号或控制信号的装置，例如：钻进同时测井
E21B47/13
通过电磁能，例如一定射频范围内的
E21B47/135
利用光波，例如红外波或紫外波
法律状态
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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