一种用于制备单晶包层的方法及装置

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摘要

本说明书实施例提供一种用于制备单晶包层的方法及装置，该方法包括：制备非晶相物料；熔化非晶相物料以形成非晶相熔体；将光纤浸没于非晶相熔体中；基于非晶相熔体和光纤，在光纤外周形成非晶相包层；以及对非晶相包层进行晶化处理，得到单晶包层。该装置包括：非晶相物料制备组件、非晶相包层制备组件和单晶包层制备组件。非晶相物料制备组件用于制备非晶相物料。非晶相包层制备组件用于熔化非晶相物料以形成非晶相熔体；将光纤浸没于非晶相熔体中；以及基于非晶相熔体和光纤，在光纤外周形成非晶相包层。单晶包层制备组件用于对非晶相包层进行晶化处理，得到单晶包层。

基本信息

专利标题：

一种用于制备单晶包层的方法及装置

专利标题（英）：

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公开（公告）号：

CN113480198A

申请号：

CN202110814718.4

公开（公告）日：

2021-10-08

申请日：

2021-07-19

授权号：

CN113480198B

授权日：

2022-06-03

发明人：

王宇顾鹏梁振兴

申请人：

眉山博雅新材料有限公司

申请人地址：

四川省眉山市东坡区金象化工产业园区君乐路3号

代理机构：

成都七星天知识产权代理有限公司

代理人：

严芳芳

优先权：

CN202110814718.4

主分类号：

C03C25/106

IPC分类号：

C03C25/106 C03C25/16 C30B1/02 C30B29/28