单晶氧化镓的制备方法及用于制备单晶氧化镓的工艺设备
实质审查的生效
摘要

本发明提供一种单晶氧化镓的制备方法及用于制备单晶氧化镓的工艺设备。所述单晶氧化镓的制备方法包括:提供氧化镓粉体;将所述氧化镓粉体压成块体氧化镓;提供坩埚,所述坩埚内具有底部容置区和顶部开口区,所述底部容置区和所述顶部开口区间隔;将所述块体氧化镓放入所述底部容置区,在所述顶部开口区放置籽晶;将所述坩埚置于流动的保护气氛中,对所述坩埚进行加热,对所述顶部开口区施加的温度低于所述籽晶的分解温度,对所述底部容置区施加的温度高于所述块体氧化镓的分解温度。本发明加快了氧化镓分解为气体源的速度,进而提高了单晶氧化镓的持续生长速度,节约了能源,降低了生产成本。

基本信息
专利标题 :
单晶氧化镓的制备方法及用于制备单晶氧化镓的工艺设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114381800A
申请号 :
CN202210135660.5
公开(公告)日 :
2022-04-22
申请日 :
2022-02-14
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
不公告发明人
申请人 :
苏州燎塬半导体有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市张家港市凤凰镇凤凰大道14号(凤凰科技创业园F幢6层)
代理机构 :
北京三聚阳光知识产权代理有限公司
代理人 :
薛异荣
优先权 :
CN202210135660.5
主分类号 :
C30B23/00
IPC分类号 :
C30B23/00  C30B29/16  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B23/00
冷凝气化物或材料挥发法的单晶生长
法律状态
2022-05-10 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C30B 23/00
申请日 : 20220214
2022-04-22 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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