具有氢阻挡件的反射镜装配件和光学装配件
公开
摘要
本发明涉及一种反射镜装配件(30)，其包括：基板(31)，其具有正面(31a)和背面(31b)，正面(31a)具有用于反射辐射(5)的反射镜表面(32a)并且背面(31b)背对正面(31a)；以及至少一个致动器(27)，用于产生反射镜表面(32a)的变形。至少一个致动器(27)固定在基板(31)的背面(31b)，并且反射镜装配件(30)具有氢阻挡件(38)，氢阻挡件(38)被设计为保护基板(31)的背面(31b)上——特别是在至少一个致动器(27)上——的氢敏感材料(M)免受来自反射镜装配件(30)的环境的氢的影响。本发明还涉及光学装配件，特别是EUV光刻装置(1)，其包括这类的反射镜装配件(30)。
基本信息
专利标题 ：
具有氢阻挡件的反射镜装配件和光学装配件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114341740A
申请号 ：
CN202080061830.9
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2020-07-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
A.帕齐迪斯K.希尔德T.波拉克M.诺亚J.纳瑟D.克莱因亨兹
申请人 ：
卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请人地址 ：
德国上科亨
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
王蕊瑞
优先权 ：
CN202080061830.9
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G02B26/06 G02B7/185 G02B5/08
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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