于工艺腔室表面或部件上形成保护涂层的方法
实质审查的生效
摘要
本揭露内容的实施方式提供在工艺腔室表面和/或部件上制造或以其他方式形成包含氧化铈的保护涂层的方法，工艺腔室表面和/或部件例如是暴露于工艺腔室内的等离子体的表面。在一个或多个实施方式中，在工艺腔室内形成保护涂层的方法包括在原子层沉积(ALD)工艺期间将氧化铈层沉积在腔室表面或腔室部件上。ALD工艺包括在一个ALD周期中，将腔室表面或腔室部件依次暴露于铈前驱物、净化气体、氧化剂和净化气体，以及重复ALD周期以沉积氧化铈层。
基本信息
专利标题 ：
于工艺腔室表面或部件上形成保护涂层的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114375348A
申请号 ：
CN202080062730.8
公开（公告）日 ：
2022-04-19
申请日 ：
2020-07-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
吉蒂卡·巴贾尤吉塔·巴瑞克普莉娜·松特海利亚·古拉迪雅安库尔·凯达姆
申请人 ：
应用材料公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人 ：
徐金国
优先权 ：
CN202080062730.8
主分类号 ：
C23C16/40
IPC分类号 ：
C23C16/40 C23C16/455 H01J37/32
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/22
以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C16/30
沉积化合物、混合物或固溶体，例如硼化物、碳化物、氮化物
C23C16/40
氧化物
法律状态
2022-05-06 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 16/40
申请日 : 20200728
申请日 : 20200728
2022-04-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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