电子装置及其生产方法、成像方法和成像设备
实质审查的生效
摘要
提供了电子装置，其包括：载体；包括电荷传输材料的电荷传输层或包括增感染料的增感染料电极层，其中电荷传输层或增感染料电极层被设置在载体上或上方；和金属氧化物层，所述金属氧化物层被设置在电荷传输层或增感染料电极层上或上方，其中金属氧化物层包括p型半导体金属氧化物和二氧化硅或金属氧化物颗粒，并且其中金属氧化物层中包括的二氧化硅或金属氧化物颗粒量为相对于金属氧化物层0.5质量％以上但1.5质量％以下。
基本信息
专利标题 ：
电子装置及其生产方法、成像方法和成像设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114341745A
申请号 ：
CN202080062990.5
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2020-07-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
纸英利浅野友晴石井雅之井上龙太
申请人 ：
株式会社理光
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人 ：
颜芳
优先权 ：
CN202080062990.5
主分类号 ：
G03G5/04
IPC分类号 ：
G03G5/04 G03G5/147
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03G
电记录术；电照相；磁记录
G03G5/00
采用辐照用于原稿记录的记录构件；记录构件的制造；所用材料的选择
G03G5/02
电荷接受层
G03G5/04
光导层；电荷发生层或电荷转移层；上述各层的添加剂和黏接剂
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03G 5/04
申请日 : 20200721
申请日 : 20200721
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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