成像方法、装置、电子设备及存储介质
公开
摘要
本公开是关于一种成像方法、装置、电子设备及存储介质，包括：响应成像请求，基于默认曝光值获取基础图像，其中，所述基础图像包括N个区块；基于所述N个区块中第一区域的亮度和第二区域的亮度，得到第一曝光值和第二曝光值，其中，所述第一区域包括M个亮度最大的区块，所述第二区域包括M个亮度最小的区块，所述M小于所述N；基于所述第一曝光值和所述第二曝光值，获得对应的第一图像和第二图像；融合所述基础图像、第一图像和第二图像，得到最终成像。本申请能够针对不同的场景，自适应地计算出适宜的曝光值，通过将对应的曝光图像及基础图像进行融合，从而提高了最终输出图像的成像效果。
基本信息
专利标题 ：
成像方法、装置、电子设备及存储介质
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114422721A
申请号 ：
CN202210088608.9
公开（公告）日 ：
2022-04-29
申请日 ：
2022-01-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
王远博
申请人 ：
上海闻泰电子科技有限公司
申请人地址 ：
上海市黄浦区北京东路666号H区（东座）6楼H115室
代理机构 ：
北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
郭栋梁
优先权 ：
CN202210088608.9
主分类号 ：
H04N5/265
IPC分类号 ：
H04N5/265 H04N5/235 H04N5/217
法律状态
2022-04-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
