防反射结构体、带防反射结构体的基材、相机模块和信息终端设...
实质审查的生效
摘要
本发明的课题是提供防反射性能和透明性优异、减少了表面褶皱的产生的防反射结构体。为了解决上述课题，本发明提供一种防反射结构体(10)，其至少具备粘接层(20)和形成于该粘接层(20)上且在两面具有微细凹凸结构的防反射膜(30)，其特征在于，上述粘接层(20)的储能模量E’为25MPa以上，形成于上述防反射膜(30)的两面的微细凹凸结构均具有可见光线的波长以下的凹凸周期P。
基本信息
专利标题 ：
防反射结构体、带防反射结构体的基材、相机模块和信息终端设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114424091A
申请号 ：
CN202080065634.9
公开（公告）日 ：
2022-04-29
申请日 ：
2020-09-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
须贺田宏士田泽洋志梶谷俊一
申请人 ：
迪睿合株式会社
申请人地址 ：
日本栃木县
代理机构 ：
北京挚诚信奉知识产权代理有限公司
代理人 ：
严星铁
优先权 ：
CN202080065634.9
主分类号 ：
G02B1/118
IPC分类号 ：
G02B1/118
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
G02B1/11
抗反射涂层
G02B1/118
具有一种设计成分段视觉波长的表面结构以提供增强的透射率，例如，蛾眼结构
法律状态
2022-05-20 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 1/118
申请日 : 20200923
申请日 : 20200923
2022-04-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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