光学层叠体的制造方法、粘接剂涂敷装置及光学层叠体的制造装...
实质审查的生效
摘要
本发明提供能够抑制粘接剂的运行成本、并且不会损害光学层叠体的制造效率、能够保持光学层叠体的良好的粘接性的光学层叠体的制造方法等。本发明的光学层叠体的制造方法具备：通过粘接剂涂敷装置(100)将活性能量射线固化型粘接剂(ad)涂敷于为了制作光学层叠体(F)而贴合在一起的第一光学膜(F1)及第二光学膜(F2)中的至少一者的粘接剂涂敷工序，粘接剂涂敷装置具备：涂敷粘接剂的涂敷机(6)；储存粘接剂并向涂敷机供给粘接剂的第一罐(20)；以及将粘接剂密封储存、并向第一罐供给粘接剂且粘接剂的储存量比第一罐大的第二罐(30)，在粘接剂涂敷工序中，使粘接剂在第一罐与涂敷机之间循环，并且在第一罐内的粘接剂的储存量成为给定值以下时，从第二罐向第一罐供给粘接剂。
基本信息
专利标题 ：
光学层叠体的制造方法、粘接剂涂敷装置及光学层叠体的制造装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114423598A
申请号 ：
CN202080065851.8
公开（公告）日 ：
2022-04-29
申请日 ：
2020-10-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
山崎达也小川敏弘植敷大地
申请人 ：
日东电工株式会社
申请人地址 ：
日本大阪府
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
沈雪
优先权 ：
CN202080065851.8
主分类号 ：
B32B7/023
IPC分类号 ：
B32B7/023 B32B7/12 B32B27/08 B32B27/18 B32B27/28 B32B27/30 B32B27/38 B32B37/12 C08K5/55 C09D4/00 C09D5/00 C09D7/63 C09D163/00 C09D183/00 C09D185/00 C09J7/30 C09J11/06 G02B1/14 G02B5/30 G02F1/1335
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B32
层状产品
B32B
层状产品，即由扁平的或非扁平的薄层，例如泡沫状的、蜂窝状的薄层构成的产品
B32B7/023
••光学性质
法律状态
2022-05-20 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B32B 7/023
申请日 : 20201028
申请日 : 20201028
2022-04-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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