提供了一种用于以光谱方法分析样品的光谱测定系统。所述系统包括：用于与所述样品相互作用的激发源；用于检测所述样品吸收或发射的至少一部分光的检测器，所述激发源和检测器经由光路光学耦合；以及位于所述光路中的孔，所述孔用于限制光从所述激发源到所述检测器的透射，其中所述孔被配置成具有一个或多个几何特征的空间变化分布，所述几何特征在所述孔的边缘周围提供可变透射区域。还提供了一种与光谱测定系统一起使用的掩模，所述掩模被配置成位于激发源和检测器之间的光路中，其中所述掩模具有一个或多个几何特征的空间变化分布，所述几何特征在所述孔的边缘周围提供可变透射区域。还提供了一种用于限制经由光谱测定系统中的孔从激发源到检测器的光通过量的方法。