用于净化受放射性污染材料的方法
公开
摘要
本发明涉及一种用于净化受放射性污染材料的方法，包括以下步骤：a)在净化浴装置(200)中提供受放射性污染材料；b)提供反应器单元(107)，所述反应器单元包括相连的第一反应器室(102)和第二反应器室(103)；c)在所述第一反应器室(102)中电解pH＞7的水并生成(H3O2)n；d)在所述第二反应器室(103)的所述已电解的水中生成纳米气泡；e)任选地重复所述步骤c)和d)；f)向含有所述纳米气泡的所述水施加压力；g)将含有所述纳米气泡的所述已加压的水传送至含有α射线发生器和所述受放射性污染材料的所述净化浴装置(200)；h)用由所述α射线发生器发射的α粒子来使所述纳米气泡带电；以及i)使所述已带电的纳米气泡与所述净化浴装置(200)中的所述受放射性污染材料接触。
基本信息
专利标题 ：
用于净化受放射性污染材料的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114503218A
申请号 ：
CN202080068356.2
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2020-09-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
西牧纯古谷达桥本广幸古谷彻也
申请人 ：
高能技术智财控股有限责任公司
申请人地址 ：
日本大分县比普市
代理机构 ：
上海智信专利代理有限公司
代理人 ：
郑暄
优先权 ：
CN202080068356.2
主分类号 ：
G21F9/06
IPC分类号 ：
G21F9/06 G21F9/30
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理；核工程
G21F
G21FX射线，γ射线、微粒射线或粒子轰击的防护；处理放射性污染材料；及其去污染装置
G21F9/00
处理放射性污染材料；及其去污装置
G21F9/04
处理液体的
G21F9/06
处理过程
法律状态
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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