3D光场显示器的光学设计和优化技术
公开
摘要
公开了用于设计和优化诸如集成成像头戴式显示器的高性能光场显示器的方法和框架。所公开的技术使用户定义的度量能够表征这样的系统的性能和优化。一种设计方法涉及基于集成成像的三维(3D)显示系统，该显示系统包括阵列光学体、用于产生多个元素图像的阵列显示装置、表示虚拟中心深度平面(CDP)的第一参考平面、表示用于观看经重构3D场景的观看窗口的第二参考平面，以及表示人眼模型的光学子区段。该方法包括追迹针对阵列显示装置和阵列光学体的每个元件从阵列显示装置开始、通过阵列光学体并且到达光学子区段的射线，以及调整一个或多个参数以至少获得在预先确定值内的第一度量值。
基本信息
专利标题 ：
3D光场显示器的光学设计和优化技术
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114556913A
申请号 ：
CN202080068903.7
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2020-08-12
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
H·华H·黄
申请人 ：
代表亚利桑那大学的亚利桑那校董事会
申请人地址 ：
美国亚利桑那州
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
王蕊瑞
优先权 ：
CN202080068903.7
主分类号 ：
H04N13/302
IPC分类号 ：
H04N13/302 G02B30/26
法律状态
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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