辐射烤架装置
公开
摘要
公开了一种辐射烤架装置(10)，该辐射烤架装置(10)包括具有相对的侧(22、24)的外壳(20)、和位于所述外壳上的食物支撑构件(70)，外壳包括：沿着所述相对的侧(22)中的仅一侧并且被布置为将所述红外辐射的一部分定向到食物支撑构件上使得产生跨食物支撑构件的热量分布的红外辐射源布置(30)；面向食物支撑构件的滴液收集构件(80)；以及被设置布置为将所述红外辐射的另外的部分重新定向到食物支撑构件上以提高所述热量分布的均匀性的反射器布置(100)，所述反射器布置包括被布置为将红外辐射的另外的部分的相应分部(i0、i1、i2、i3)重定向到食物支撑构件(70)的不同区域的多个反射器部分(40、50、60)将红外辐射的另外的部分的相应分部(i0、i1、i2、i3)朝向食物支撑构件(70)的不同区域重定向。
基本信息
专利标题 ：
辐射烤架装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114514793A
申请号 ：
CN202080070955.8
公开（公告）日 ：
2022-05-17
申请日 ：
2020-09-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
顾伟肖卫民
申请人 ：
皇家飞利浦有限公司
申请人地址 ：
荷兰艾恩德霍芬市
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
董莘
优先权 ：
CN202080070955.8
主分类号 ：
H05B3/00
IPC分类号 ：
H05B3/00 H05B3/02 G02B19/00 G02B27/00 A47J37/06
法律状态
2022-05-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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