用于在荧光显微技术中像差校正的方法和装置
公开
摘要
在用于三维扩展的样本的显微图像采集的方法中，在第一步骤(1)中、通过利用聚焦的激励光分布在与显微物镜的光轴平行的截面中扫描样本实现采集与显微物镜的光轴平行的第一截面图。在此，借助于可调设的校正机构按照像差校正函数的初始调设参数校正激励光分布；且在每个扫描位置探测从样本发出的荧光。在第二步骤(2)中实现第一截面图的分析处理。在第三步骤(3)中实现确定像差校正函数的新的调设参数。在第四步骤(4)中，通过利用聚焦的激励光分布扫描样本实现采集另外的图像数据，其中借助于可调设的校正机构按照像差校正函数的新的调设参数校正该激励光分布，且其中在每个扫描位置探测从样本发出的荧光。
基本信息
专利标题 ：
用于在荧光显微技术中像差校正的方法和装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114556182A
申请号 ：
CN202080071381.6
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2020-10-12
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
M·罗伊斯J·海涅C·武尔姆
申请人 ：
阿贝里奥仪器有限责任公司
申请人地址 ：
德国哥廷根
代理机构 ：
永新专利商标代理有限公司
代理人 ：
韩长永
优先权 ：
CN202080071381.6
主分类号 ：
G02B21/00
IPC分类号 ：
G02B21/00 G01N21/64
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B21/00
显微镜
法律状态
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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