隔膜清洁设备
公开
摘要
一种用于从隔膜移除颗粒的隔膜清洁设备，所述隔膜清洁设备包括：隔膜支撑件，所述隔膜支撑件用于支撑所述隔膜；和压力脉冲产生机构，所述压力脉冲产生机构包括被配置成在气体中产生压力脉冲的一个或更多个激光能量源。所述一个或更多个能量激光源可以被聚焦以在气态气氛中产生压力脉冲。所述压力脉冲用以移走所述隔膜上的颗粒。
基本信息
专利标题 ：
隔膜清洁设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114556227A
申请号 ：
CN202080072790.8
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2020-08-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
A·尼基帕罗夫D·库日洛维奇
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
王益
优先权 ：
CN202080072790.8
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 B08B5/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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