隔膜清洁设备
公开
摘要
一种用于从隔膜移除颗粒的隔膜清洁设备，包括：隔膜支撑件；受控环境腔室和清洁物质输送机构。输送至所述隔膜的清洁物质的颗粒在受控环境中升华而不留下残留物。受控环境中的掩模、孔和气体阻力的组合允许向所述隔膜提供具有在约1至100m/s(优选地约3至30m/s)的范围内的速度和在约1至100μm(优选地1至10μm)的范围内的大小的清洁物质颗粒，使得两相流清洁但不破坏薄且脆弱的隔膜。
基本信息
专利标题 ：
隔膜清洁设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114600046A
申请号 ：
CN202080074029.8
公开（公告）日 ：
2022-06-07
申请日 ：
2020-10-09
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
A·尼基帕罗夫V·Y·班尼恩S·布洛姆G·C·德弗里斯H-K·尼恩惠斯F·斯布莱萨伊
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
张启程
优先权 ：
CN202080074029.8
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03F1/62 G03F1/82
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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