用于高效的高次谐波产生的方法和设备
公开
摘要
披露了一种产生高次谐波辐射的高次谐波辐射源和相关联的方法。所述高次谐波辐射源被配置成通过利用辐射的预脉冲照射所述气体介质来调节所述气体介质，由此产生包括预脉冲等离子体分布的等离子体；以及利用辐射的主脉冲来照射所述气体介质以产生所述高次谐波辐射。所述调节步骤使得包括预脉冲等离子体分布的所述等离子体用于配置所述主脉冲的波前以改善以下各项中的一种或两者：所述高次谐波产生过程的效率，和所述高次谐波辐射的束品质。所述高次谐波辐射源还可以包括束整形装置，所述束整形装置被配置成在所述调节之前对所述定制化预脉冲进行整形。
基本信息
专利标题 ：
用于高效的高次谐波产生的方法和设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114631055A
申请号 ：
CN202080076314.3
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2020-10-15
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
P·W·斯摩奥伦堡
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
王益
优先权 ：
CN202080076314.3
主分类号 ：
G02F1/35
IPC分类号 ：
G02F1/35 G03F7/20 H05G2/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/19
•• G02F1/015至G02F1/167不包括的基于可变的反射或折射元件的
G02F1/35
非线性光学
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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